传中芯国际在测试首款国产28纳米DUV光刻机

据多家行业媒体援引知情人士近日消息，中芯国际（SMIC）已开始对首款国产深紫外（DUV）光刻机进行评估和测试。

据悉，中芯国际正在测试的深紫外线（DUV）光刻机由上海初创公司宇量昇生产，采用浸没式技术，类似于ASML所采用的技术。这台国产的28纳米（nm）DUV光刻机，可利用“多重曝光技术”生产7纳米芯片，即在没有EUV光刻机的情况下，通过多次光刻实现更精细线路图案的折中方案。

光刻机被誉为半导体制造的“皇冠明珠”，其技术水平直接决定了芯片的制程工艺和性能。目前，最先进的极紫外（EUV）光刻机由荷兰ASML公司垄断，用于7纳米及以下先进制程的生产。然而，对于更广泛的成熟制程市场——包括28纳米、40纳米乃至部分14/12纳米节点——深紫外（DUV）光刻机（主要指ArF干式和浸没式光刻机）才是真正的“主力军”。

这些成熟制程芯片广泛应用于汽车电子、工业控制、物联网、消费电子、电源管理等领域，市场需求巨大且稳定。长期以来，中国在DUV光刻机领域也严重依赖进口，主要供应商同样是ASML。尽管美国等国家的出口管制主要针对EUV和最先进的DUV设备，但对成熟制程设备的获取也时常受到限制或延迟，给中国的芯片产能扩张带来了不确定性。

知情人士透露，中芯国际试用的这类设备也能被推向极限以生产5纳米处理器，但良率会偏低，无法再进一步制造更先进的产品。不过，在美国出口管制政策下，即使用EUV光刻机多重曝光工艺良率低、成本高，但至少还有选择。

目前尚不清楚该光刻机是否及何时能够用于高端芯片的量产。但毫无疑问，成功研发并量产国产DUV光刻机，对于保障中国庞大的成熟制程芯片供应链安全、提升产业链韧性具有至关重要的战略意义。

 

责编：Jimmy.zhang