ASML新一代High-NA EUV光刻机达量产标准，单台造价4亿美元

据路透社报道，荷兰光刻巨头ASML透露，该公司研发的新一代高数值孔径极紫外光刻机（High-NA EUV）已具备厂商大规模量产使用的条件。

作为全球半导体供应链中最关键的“瓶颈”环节，ASML是唯一能够生产EUV光刻机的厂商，其技术壁垒极高，涉及光学、精密机械、材料科学等多个顶尖学科的融合。在High-NA EUV领域，这种垄断优势更是达到了极致——目前全球没有任何其他企业能够提供同类商用设备。

ASML首席技术官马尔科·皮特斯（Marco Pieters）在采访中披露了关键数据：这款名为High-NA EUV的新设备已累计加工完成约50万片餐盘大小的硅晶圆。在这一过程中，设备的停机时间大幅减少，稼动率（设备利用率）已达到约80%，公司计划在今年年底前将这一指标提升至90%。更为重要的是，设备刻制出的芯片电路图案精度已完全达到量产标准。

皮特斯表示：“芯片制造商已掌握相关技术，具备完成该设备量产认证的能力。”尽管设备在技术上已实现就绪，但他也指出，芯片企业仍需耗时2至3年开展充分的测试与研发，才能将其完全整合至自身的量产流程中。从试产验证周期来看，目前行业已到达关键节点。

作为全球唯一商用极紫外光刻机（EUV）的供应商，ASML的新一代设备不仅性能强劲，价格也同样令人咋舌。据悉，这款High-NA EUV光刻机的单台成本约为4亿美元（约合27.41亿元人民币），是初代EUV光刻机价格的两倍。

当前一代EUV光刻机在制造复杂人工智能芯片方面已逐渐接近技术极限，而High-NA EUV通过更高的数值孔径，能够省去芯片制造流程中数个高成本、高复杂度的工序。这将助力台积电、英特尔等头部芯片企业制造出性能更强劲、能效更优异的下一代芯片，满足市场对AI算力激增的需求。