苏大维格拟5.1亿元控股常州维普 深化半导体量检测设备领域布局

11月7日，苏大维格发布公告，宣布拟以自有或自筹资金5.1亿元收购常州维普半导体设备有限公司51%的股权。交易完成后，常州维普将成为苏大维格的控股子公司，正式纳入其合并报表范围。

常州维普是江苏省认定的专精特新“小巨人”企业，核心业务聚焦于半导体前道量检测领域的关键设备——光掩模缺陷检测设备和晶圆缺陷检测设备的研发、生产与销售。其中，光掩模缺陷检测设备是其收入的主要来源。该公司是国内极少数在该高端设备领域实现规模化量产的企业，其技术、产品及核心算法均为正向自研，拥有自主知识产权，并实现了核心零部件的高度国产化与自主可控。目前，常州维普的产品已成功导入国内头部晶圆制造厂以及国内外领先的掩膜版厂商的量产线，证明了其产品的市场竞争力。

常州维普正处于业务高速发展期。根据公告披露的数据（未经审计），2025年1月至10月期间，公司实现营业收入超过1.14亿元，净利润超过5,100万元，经营活动产生的现金流量净额超过5,500万元，展现出优异的盈利质量和现金流状况。截至2025年10月31日，公司在手订单金额约为2.5亿元，合同负债超过1亿元，显示出强劲的市场需求；同时，公司货币资金及银行理财总额约1.4亿元，有息负债仅约800万元，资产流动性强，财务结构健康。根据容诚会计师事务所出具的盈利预测报告，常州维普2025年全年预计营业收入为13,657.10万元，预计归属于母公司所有者的净利润为6,057.80万元。充足的订单为未来业绩提供了坚实保障。

半导体量检测设备是保障芯片制造良率的核心环节，全球市场规模巨大且持续增长。据相关报告，2023年全球量检测设备市场规模约128亿美元，其中光掩模缺陷检测设备份额约18.10亿美元，预计到2025年将增长至约22亿美元。值得注意的是，在中国大陆已成为全球最大半导体设备市场的背景下，量检测设备的国产化率仍不足5%，而光掩模缺陷检测环节的国产化率更是低于3%，市场长期被美国科磊（KLA）、日本Lasertec等国际巨头垄断。因此，该领域国产替代需求迫切，市场空间巨大。

苏大维格主营业务包括高端激光直写光刻机和纳米压印光刻机的研发与制造，其中激光直写光刻机是生产光掩模的核心设备，同样面临国产化率极低的局面。本次收购将为苏大维格带来显著的协同效应。一是客户资源协同：常州维普的客户体系与苏大维格激光直写光刻机目标客户高度重叠，将极大助力苏大维格缩短客户开发与产品验证周期，加速其光刻设备在半导体掩模制造与先进封装领域的量产应用。二是技术研发协同：苏大维格在光学系统、精密运动控制平台方面底蕴深厚，而常州维普在核心算法、软件系统及电气电控方面具备优势与量产经验。双方技术融合，将有力促进直写光刻技术与缺陷检测设备的共同迭代升级，提升产品整体竞争力。

本次收购是苏大维格深化半导体装备产业链布局的关键一步。交易完成后，通过整合双方在光刻与检测领域的技术与市场资源，有望为公司培育新的利润增长点。常州维普创始股东已作出业绩承诺，2025年度至2027年度累计扣除非经常性损益后的净利润（孰低原则）将不低于24,000万元。若该业绩承诺顺利实现，将对苏大维格的财务状况和经营成果产生积极的增厚作用。